面向下一代极紫外光刻的6.Xnm高反射率La/B4C多层膜

　　本文采用一种单界面阻隔层多层膜沉积技术，通过脉冲直流溅射在B4C-on-La界面处添加一层超薄的碳阻隔层，有效提高了6.Xnm波段La/B4C体系多层膜的反射率，对开发下一代“超越极紫外”（BEUV）光刻用多层膜反射镜至关重要。研制成功的La/C/B4C多层膜反射镜，在合肥同步辐射中心测得了在6.65 nm波长处、入射角为12.5°时高达60.0%的反射率。