摘要：在含双氧水、氯丙烯的环氧化反应条件和含甲醇、氯丙烯的催化剂再生条件下，对哈氏合金（C22和C276）进行均匀腐蚀，在环氧化反应条件下对C22和C276进行应力腐蚀，研究了2种材料的腐蚀行为。结果表明：在环氧化反应条件下，C22的均匀腐蚀速率（V）稳定，为0.003 2 mm/a，而C276的V波动较大，为0.002 7～0.004 8 mm/a；在催化剂再生条件下，C22的V为0.001 5～0.002 0 mm/a，而C276的V为0.001 3～0.002 3 mm/a，表现出一定的不稳定性；催化剂再生条件下2种材料的V均有所下降，说明催化剂再生条件的腐蚀性低于环氧化反应条件；在环氧化反应条件和催化剂再生条件下，被均匀腐蚀的C22和C276材料均未发生明显的腐蚀行为，其表面没有产生其他非金属化合物或氧化物等腐蚀产物；在环氧化反应条件下，C22和C276材料均未出现应力腐蚀开裂情况，均具有良好的抗应力腐蚀性能。
文章目录
1 实验
1.1 主要原料及试剂
1.2 主要设备及仪器
1.3 实验方法
1.3.1 均匀腐蚀实验
1.3.2 应力腐蚀实验
1.4 分析与测试
2 结果和讨论
2.1 不同工况下材料的均匀腐蚀程度
2.2 不同腐蚀条件下材料的表面微观形貌
2.3 不同腐蚀条件下材料的表面元素组成
2.4 不同腐蚀条件下材料的腐蚀产物组成
2.5 材料的抗应力腐蚀开裂性能
3 结论
