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摘要：有机金属卤化物在X射线成像领域展现出巨大的应用潜力。然而，多晶薄膜闪烁体屏幕的均匀性差、透射率低和光散射等问题严重降低了X射线成像分辨率。本文使用空间限域法生长制备了英寸级(C24H20P)2MnBr4单晶薄膜，对单晶薄膜进行了物相、光学和闪烁性能的研究。该晶体表现出90%的光致发光量子产率（PLQY）及优异的光稳定性。将该晶体在UV 365 nm紫外光下连续照射24 h，其光谱保持稳定。基于该晶体优异的光学性质，在X射线下产生83，000 photons/MeV（估算值）的高光产额，是商用LYSO闪烁体的2.5倍。此外，该晶体展现出优异的耐辐射稳定性，即使在504 mGy·s–1的高剂量率下暴露60 min后仍保持其性能的稳定性。基于上述优势，将(C24H20P)2MnBr4单晶薄膜应用于X射线成像，实现了约23 lp/mm的空间分辨率，在该领域展现出巨大的应用潜力。
文章目录
0 引 言
1 实 验
1.1 实验原料和制备方法
1.2 性能测试
2 结果与讨论
2.1 物相分析
2.2 (C24H20P)2MnBr4晶体的PL光谱表征
2.3 (C24H20P)2MnBr4晶体的光学性质
2.4 X射线下的闪烁性能
2.5 X射线成像分析
3 结 论
